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オゾンプルーフ

耐オゾン皮膜『オゾンプルーフ』

耐オゾン皮膜『オゾンプール』の詳細

耐オゾン皮膜『オゾンプルーフ』は真空チャンバーへの表面処理として誕生しました。

真空チャンバーにて半導体を製造する場合、UV(紫外線)を照射しながら湿り気のCDA(不活性ガス)を流すのでオゾンガスと紫外線が発生し続けます。

真空チャンバーにはアルミニウムが使用されます。アルミニウムは比較的オゾンに強い材料ですので短期間のオゾン曝露では顕著な侵食は起こりませんが、半導体製造装置は金属腐食などによるコンタミを嫌いますので、オゾンガスや紫外線から守る必要があります。

このような環境に耐える処理の開発が急務であったため、耐オゾン皮膜『オゾンプルーフ』を開発しました。

オゾンプルーフは弊社オリジナルの皮膜になります。

真空チャンバーとは

真空チャンバーは、内部を真空にするための容器です。

半導体のような高密度・高集積な製造では高真空中で表面清浄を行う必要があり、より精密で不純物を取り除いた高精度の真空チャンバーが求められます。

耐オゾン皮膜『オゾンプルーフ』の特徴
  • アルミニウム(A5052やA7075など)に対応可能。

  • 耐オゾン性(O3)に優れる。

  • 耐紫外線性(UV)に優れる。

  • 耐加水分解性に優れる。

  • 高濃度オゾン・半導体・液晶産業の使用に最適

  • RoHS指令に抵触しない。

半導体製造装置向け

オゾンプルーフ処理+精密洗浄(クリーンルームクラス1000)から梱包まで対応可能です。​​​

オゾンの特性

オゾンは強い強酸力を持っており、塩素の約7倍です。この強力な酸化作用は、殺菌・脱臭・漂白などに利用されています。

オゾン水は酸化力の強いOHラジカルが生成されます。OHラジカルは電子が不足した不安定な状態であるため、自身が安定するために近くの有機物から電子を奪い取ります。また、反応性が高く、強力な酸化力を持っているため有害物質の分解や殺菌、消毒、漂白に寄与します。空気洗浄の場合も湿度が高い方が殺菌の効果が高くなりますが、OHラジカルが生成されやすいためと考えられます。

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